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Titelblatt |
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1 |
Einleitung |
1
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2 |
ION LAYER
GAS REACTION ILGAR, ein alternatives Depositionsverfahren für dünne
Beschichtungen |
5
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2.1
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Depositionsmethoden für Verbindungen
in der Dünnschichttechnologie |
5
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2.2
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ILGAR-Verfahren |
6
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2.2.1
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Funktionsprinzip |
6
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2.2.2
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Chemische Reaktionsprozesse für
II?VI-Halbleiterschichten |
8
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2.2.3
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Die Deposition von Sulfidverbindungen |
8
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2.2.4
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Die Deposition von Oxidverbindungen |
9
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2.2.5
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Die Deposition von Hydroxid-Oxid-Sulfidgemischen |
10
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2.3
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Zusammenfassung des Kapitels |
11
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3 |
Informationen
über das Schichtwachstum beim ILGAR-Sulfid-Prozeß aus strukturellen
und optischen Eigenschaften |
13
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3.1
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Standard-ILGAR-Präparationsbedingungen
für nanokristalline Sulfidschichten |
13
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3.2
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Komposition, Kristallstruktur und
Morphologie von ILGAR-Metallsulfid-Schichten |
14
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3.2.1
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Komposition und Kristallstruktur |
15
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3.2.2
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Morphologie der ILGAR-Sulfidschichten |
17
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3.3
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Vereinfachtes Wachstumsmodell von
ILGAR-CdS-Nanokristalliten |
18
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3.3.1
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Abschätzung der Weite der optischen
Bandlücke |
18
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3.3.2
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Größenquantisierungseffekt
und Kristallitgrößenbestimmung bei den ILGAR-CdS- Schichten |
20
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3.3.2.1
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"Größenquantisierungseffekt"
(Q-Size-Effect) |
21
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3.3.2.2
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Einfluß der Schichtdicke auf
die Kristallitgröße |
24
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3.3.2.3
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Einfluß der CdCl2-Konzentration
auf die Kristallitgröße |
24
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3.3.2.4
|
Mechanismus der ILGAR-CdS-Abscheidung |
25
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3.4
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Beschreibung der Absorptionskante
einer nanokristallinen Schicht |
27
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3.4.1
|
Lichtabsorption und Interbandübergänge
bei nanokristallinen Schichten |
28
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3.4.2
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Berücksichtigung der Kristallitgrößenverteilung
einer nanokristallinen Schicht |
29
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3.5
|
Anwendung des optischen Modells
auf nanokristalline ILGAR-ZnS-Schichten |
31
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3.5.1
|
Vorgehensweise bei der Simulation |
31
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3.5.2
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Optisches Absorptionsverhalten von
ILGAR-ZnS-Schichten |
32
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3.6
|
Zusammenfassung des Kapitels |
37
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4 |
Modifikationen
des ILGAR-Sulfid-Verfahrens für verschiedene Anwendungs- bereiche |
39
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4.1
|
Einfluß der Prozeßführung
auf die stöchiometrischen und optischen Eigenschaften der ILGAR-Sulfid-Schichten |
39
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4.1.1
|
Reduzieren und Entfernen von Ausgangsmaterial |
39
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4.1.2
|
Modell des Reaktionsablaufs beim
ILGAR-Sulfid-Prozeß |
42
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4.2
|
Anwendungsbeispiele |
44
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4.3
|
Zusammenfassung des Kapitels |
45
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5 |
Sulfidische
ILGAR-Halbleiterschichten in Chalkopyrit-Dünnschichtsolarzellen |
47
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5.1
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Aufbau der Cu(In,Ga)(S,Se)2-Chalkopyrit-Dünnschichtsolarzelle
und Aufgabe der Pufferschicht |
47
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5.1.1
|
Funktion der bisher verwendeten
CBD-CdS-Pufferschicht und Rolle des Abscheideverfahrens |
48
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5.1.2
|
Anforderungen an alternative Pufferschichten
und Abscheideverfahren |
50
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5.2
|
Diagnostik für die Entwicklung
der Dünnschichtsolarzelle |
51
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5.2.1
|
Wirkungsweise der Solarzelle und
Zellenparameter |
51
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5.2.2
|
Photoelektronen-Spektroskopie ?
eine Methode zur Grenzflächenanalyse |
53
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5.3
|
Einfluß der Oberflächen-Modifikation
des Absorbers auf die Bauelement-Eigenschaften |
55
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5.3.1
|
Verfahren der Oberflächenmodifikation
des Absorbers |
55
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5.3.2
|
Ergebnisse aus der Oberflächenmodifikation
von CIGSSe |
67
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5.4
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Solarzellen mit ILGAR-Pufferschichten;
Einfluß der chemischen Zusammensetzung des Puffers |
69
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5.4.1
|
ILGAR-Sulfid-Puffer |
69
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5.4.2
|
ILGAR-Hydroxid-Oxid-Sulfid-Puffer
für hocheffiziente CIGSSe-Solarzellen |
72
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5.5
|
Zusammenfassung des Kapitels |
80
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6 |
Zusammenfassung |
81
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|
Anhang |
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AI) |
Bestimmung des Volumenanteils von
ZnS im ILGAR-ZnS-Dünnfilm |
85
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AII) |
Funktionsprinzip des Spektrophotometers
und Auswertung der Transmissions- und Reflexionsspektren |
86
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AIII) |
Standardbedingungen der Pufferschichtabscheidung |
90
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AIV) |
Photoelektronen-Spektroskopie ?
Übersichtsspektren von Cu(In,Ga)(S,Se)2,
Mess- und Literaturdaten |
92
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AV) |
Materialeigenschaften der betrachteten
Sulfid-Verbindungen |
96
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AVI) |
Formelzeichen und Abkürzungen |
98
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Literaturverzeichnis |
100
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Patent, Veröffentlichungen,
Konferenz- und Messebeiträge |
105
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Lebenslauf
/ Danksagung |
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